Установка SciaClean 1500 предназначена для очистки больших трехмерных подложек методом термической десорбции, вакуумной десорбции и плазменной обработки. Основной сферой применения является сверхчистая очистка оптических компонентов и медицинских объектов.
Установка SciaClean 1500 доступна с отдельными системами нагрева для камеры и для подложки. Это обеспечивает очень хорошее базовое давление, которое необходимо для количественного определения даже небольших остаточных загрязнений на подложке методом масс-спектроскопии. Очистка может быть улучшена за счет выбора количества источников плазмы в соответствии с требованиями заказчика. Система транспортировки может использоваться для подложек весом до 3 тонн.
Свойства:
Области применения:
Размеры камеры |
2,00 м x 3,00 м x 2,00 м |
Источники плазмы |
Дополнительные источники плазмы PI400 |
Максимальная ВЧ мощность |
2,5 кВт для каждого источника |
Рабочие температуры |
Камера: охлаждение до 0 °C; нагрев до 150 °C Подложка: радиационный нагрев до 250 °C |
Контроль качества |
Масс-спектрометр для измерения уровня очистки |
Базовое давление |
< 5 x 10-8 мбар |
Размеры системы (Ш х Г х В) |
9,00 м x 6,00 м x 4,00 м (с электрической стойкой и насосами) |
Конфигурации системы |
Система транспортировки с тележкой для подложек Выбираемое количество источников плазмы, турбонасос или крионасос |
Программный интерфейс |
SECS II / GEM |